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[其他]处理系统-CN201790000788.3有效
发明人：安川员仁;小林幸久;小林正芳 -专利权人：日本电产三协株式会社
申请日： 2017-03-08 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： G01N35/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种处理系统，该处理系统被组装到规定的生产线中使用，且能够在处理对象物的种类变更时缩短生产线的停止时间。处理系统(1)具有：对处理对象物(2)实施处理的处理装置(4)；搬运被搬进处理装置(4)的处理对象物(2)以及从处理装置(4)搬出的处理对象物(2)的搬运机构(5)；以及在处理装置(4)与搬运机构(5)之间搬运处理对象物(2)的搬运用机器人(6)。在该处理系统(1)中，机器人(6)被一体地安装于处理装置(4)，且处理装置(4)能够移动。
处理装置处理对象物处理系统搬运机构机器人搬运本实用新型种类变更一体地搬出组装移动

[发明专利]处理系统-CN201410533052.5在审
发明人：藤原五男;高本德男;永田义寿;中川优志;早野一臣 -专利权人：平田机工株式会社
申请日： 2014-10-11 - 公布日： 2015-04-29 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种处理系统，能够使涂敷作业的作业效率提高，对应于多尺寸的面板。本发明的处理系统具备：具备向面板的表面涂敷液体的开口部的涂敷装置；将前述面板与前述涂敷装置的前述开口部面临地运送的运送装置；和在前述面板的运送方向的从与前述涂敷装置相比为上游侧的面板运入区域遍及到与前述涂敷装置相比为下游侧的面板运出区域地延伸设置
处理系统

[发明专利]处理系统-CN201911201499.1在审
发明人：张在爀 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： G06N3/063 文献下载
摘要：本公开涉及一种图像过滤处理系统，该图像过滤处理系统包括：临时存储器；流控制器，被配置为控制将特征和权重存储在临时存储器的点处，并且当特征和权重中的至少一个的值为0时，控制将下一特征和下一权重重写在该点处；以及处理元件，被配置为对临时存储器中的特征的值和权重的值执行乘法运算，并且对乘法结果执行加法运算。
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202010165221.X在审
发明人：井辻健明;佐藤崇广;小山泰史;吉冈利文;高见荣一;海部纪之;伊庭润;仓岛玲伊 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： G01V8/10 文献下载
摘要：本发明提供处理系统。该处理系统包括：第一摄像系统，其被构造为基于来自检查对象的太赫兹波，来拍摄第一图像；第二摄像系统，其被构造为基于波长不同于太赫兹波的电磁波，来拍摄检查对象的第二图像；以及处理器，其被构造为处理第一图像和第二图像，其中，处理器基于第二图像来检测检查区域，并处理第一图像的与检查区域相对应的区域的信息。
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202110429613.7在审
发明人：网仓纪彦;广瀬润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明增加处理系统的工作时间。处理系统包括真空输送组件、多个处理组件、多个负载锁定组件、多个大气输送组件。真空输送组件在比大气压低的压力气氛下输送基片。多个处理组件与真空输送组件连接，用于处理基片。
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202111076865.2在审
发明人：江倩;鲁琳;马洪良 -专利权人：杭州群核信息技术有限公司
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： G06F11/07 文献下载
摘要：本发明公开了一种处理系统。其中，该系统包括：管理系统，用于管理目标应用的服务资源以及服务资源对应的错误消息；目标应用的前端，用于发送请求指令以及接收请求指令对应的数据；目标应用的后端，分别与管理系统、目标应用的前端通信连接，用于在请求指令出现调用异常时，从管理系统调用完整的错误码以及错误码对应的描述信息以生成错误消息，并将错误消息返回至目标应用的前端；其中，错误消息至少包括错误码以及错误码对应的描述信息。
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202080057800.0在审
发明人：佐藤真路 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：一种处理系统，其是将来自加工光源的加工光照射至物体的至少一部分而对所述物体进行加工处理的处理系统，包括：合成光学系统，将来自测量光源的测量光的光路与来自所述加工光源的所述加工光的光路合成；照射光学系统，将来自所述合成光学系统的所述加工光及所述测量光照射至所述物体；位置变更装置，变更所述物体与来自所述照射光学系统的所述加工光的聚光位置之间的相对位置关系；光接收装置，经由所述照射光学系统来接收通过照射至所述物体的表面的所述测量光而产生的光
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202111233789.1在审
发明人：晴柀大树;松井大贵 -专利权人：杉野机械股份有限公司
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种在横排配置时容易维护的处理系统。处理系统(10)具有多个处理单元(10a～10d)，各处理单元(10a～10d)具有：具有设置于正面的供工件出入的搬入门(17)和设置于背面的检查门(21)，并且配置在前方的处理室(13)；与处理室(13)分离地配置在处理室(13)的后方，具有与处理室(13)实质上相同的宽度的控制盘(43)；和配置在处理室(13)与控制盘(43)之间，具有与处理室(13)实质上相同的宽度的台阶(31)，在将处理室(13
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202210166404.2在审
发明人：仓田茂;佐藤史朗;吉田昇悟 -专利权人：日本电产三协株式会社
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B65G47/90 文献下载
摘要：本发明提供一种处理系统，即使在使用滑块型的搬入机构的情况下，也能够具备多个处理部，能够使各处理部中的处理时间恒定。处理系统(1)具有：搬入部(2)，其具备载置显示面板(100)的可动式的搬入台(25)，使搬入台(25)在接受显示面板(100)的第一位置(2A)与移交显示面板的第二位置(2B)之间往复移动；机器人臂(
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202080074449.6在审
发明人： A·容克尔;P·卢茨 -专利权人：奥斯瓦尔德股份公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B25J5/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种处理系统(1)，用于从压制设备移除模制零件，所述系统包括：控制单元；具有至少一个线性引导件(12)的线性轴系统(10)以及第一引导滑动件(14)和第二引导滑动件(16)，该第一引导滑动件和第二引导滑动件沿着所述至少一个线性引导件
处理系统

[发明专利]处理系统-CN202210833043.2在审
发明人：小平宽久;岛田知明;上野幸平 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2022-07-15 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： H04N1/00 文献下载
摘要：提供一种使用便利性良好的处理系统。处理系统具备：堆叠器(14)，装载记录有图像的一个以上的介质(99)；保持部(17)，保持介质；处理路径(16)，从堆叠器向保持部延伸；拾取辊(23)，从堆叠器向处理路径输送介质；读取部(18)，读取在处理路径中输送的介质；以及控制部(19)，存储表示是否将介质输送到保持部的指标的指标数据(A2)，控制部根据从用户接收到处理命令，通过拾取辊将介质从堆叠器向处理路径输送，并且基于通过读取部读取介质而得到的读取数据(A1)和指标数据
处理系统

[发明专利]处理系统-CN201410412509.7有效
发明人：麦克尔·麦克·派德里克·皮德斯;克劳德·德巴;劳伦·杰拉德 -专利权人：恩智浦有限公司
申请日： 2014-08-20 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： G06F21/57 文献下载
摘要：公开了一种处理系统以及控制处理系统的处理单元对固件代码进行访问的方法。提出基于存储器的第二区域中的有效性数据来识别存储器的第一区域中存储的有效密钥，所述有效性数据指示密钥是否是有效的。根据预定的验证算法来处理固件代码，以计算固件代码的验证值。解析所述验证值和有效密钥，以确定固件代码是否是可信任的。基于固件代码是否被确定为可信任来控制处理单元对固件代码的访问。
处理系统

[发明专利]处理系统-CN201810480108.3有效
发明人：鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-09-03 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供提供一种处理系统，即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差
处理装置片状基板处理系统处理状态设定条件既定处理既定图案元件制造制造系统可挠性制造

[发明专利]处理系统-CN201210380229.3有效
发明人：加藤淳也 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2012-10-09 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G06F9/46 文献下载
摘要：一种处理系统包括处理请求队列，其对应于处理组并且额外存储寻址到该处理组的到达的处理请求；至少一个处理器，其属于该处理组，并且在被允许接收新的处理请求时从处理请求队列取回处理请求，并处理取回的处理请求；和监控单元，其监控处理组的处理负荷，并且在通过监控确定该处理组的处理负荷变得低于预定收缩阈值时，将组收缩指令发布给处理组。如果已经发布了组收缩指令，则处理组中的预定数量的处理器成为挂起目标。作为挂起目标的处理器停止从处理组的处理请求队列取回新的处理请求，在完成所有已取回的处理请求的处理后停止操作，并且随后从处理组中排除。
处理系统

[发明专利]处理系统-CN201210239469.1有效
发明人： F·佩雷斯-维拉德 -专利权人：卡尔蔡司显微镜有限责任公司
申请日： 2012-04-23 - 公布日： 2017-07-11 - 主分类号： H01L21/265 文献下载
摘要：一种处理系统包括围绕在聚焦透镜和相互作用区域之间的束通道环形延伸的环形管道，特别是以圆环形的形式延伸；其中环形管道在面向相互作用区域的侧部上包括朝向相互作用区域的多个用于气体的出口；并且其中环形管道包括保持器装置
处理系统

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